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    掃描電子顯微鏡

    簡(jiǎn)要描述：Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡
    設備概述
    型號: SEMVision CX 200
    制造商: Applied Materials
    應用領(lǐng)域: 半導體制造環(huán)境
    主要特性
    光學(xué)系統: 0.2 NA 光學(xué)系統
    高分辨率彩色相機
    電動(dòng)龍門(mén)
    CO2激光準直光學(xué)設計
    低噪聲冷卻CCD相機
    可調LED光源
    多測量模式

    • 產(chǎn)品型號：CX 200
    • 廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
    • 更新日期：2024-08-01
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：104

    詳細介紹

    Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡

    設備概述

    型號: SEMVision CX 200

    制造商: Applied Materials

    應用領(lǐng)域: 半導體制造環(huán)境

    主要特性

    光學(xué)系統: 0.2 NA 光學(xué)系統

    高分辨率彩色相機

    電動(dòng)龍門(mén)

    CO2激光準直光學(xué)設計

    低噪聲冷卻CCD相機

    可調LED光源

    多測量模式

    技術(shù)優(yōu)勢

    改進(jìn)的性能和產(chǎn)量監控

    支持先進(jìn)集成電路設計的制造

    檢測微觀(guān)尺度的缺陷和非均勻區域

    配置選項

    自動(dòng)化掩模書(shū)寫(xiě)功能

    自動(dòng)化檢查技術(shù)

    檢測能力

    單晶圓檢測速度: ≤90 s (在流水線(xiàn)模式下)

    單晶圓缺陷吞吐量: ≤500 DPH (可選600 DPH)

    單晶圓吞吐量: ≥8 晶圓/小時(shí) (50個(gè)缺陷/晶圓)

    清潔等級與API參數

    清潔等級: Class 1 可接受外界條件影響的結霜對機組性能的影響



    API參數: +/-1.5um API (Automatic Process Control)



    Applied Materials CX 200掃描電子顯微鏡是一款高性能、高精度的掩模和晶圓檢測設備，憑借其先進(jìn)的光學(xué)系統、強大的圖像處理能力和高效的自動(dòng)化功能，能夠滿(mǎn)足現代半導體生產(chǎn)中對缺陷檢測的嚴格要求。



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