晶圓檢測(cè)儀

KLA-Tencor AIT XP 晶圓檢測(cè)儀

是一種先進(jìn)的晶圓測(cè)試和計(jì)量系統(tǒng)，專為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的缺陷檢測(cè)和過(guò)程控制而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)利用高精度的成像技術(shù)和專有算法，能夠快速、準(zhǔn)確地識(shí)別和分析晶圓上的缺陷，從而提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

KLA-Tencor AIT XP 系統(tǒng)具有以下特點(diǎn)：

1. 高速度和高通量：該系統(tǒng)能夠在80秒內(nèi)完成整個(gè)圖案化晶圓的檢查，并且具有較高的缺陷捕獲率，這使得其相比現(xiàn)有系統(tǒng)可以提高多達(dá)75%的吞吐量。

2. 先進(jìn)的檢測(cè)技術(shù)：KLA-Tencor AIT XP 使用暗場(chǎng)顯微鏡技術(shù)進(jìn)行缺陷檢測(cè)，結(jié)合混合模式檢測(cè)（Mixed Mode Detection），以滿足0.13微米及更小設(shè)計(jì)規(guī)則的需求。

3. 模塊化設(shè)計(jì)：該系統(tǒng)包括一個(gè)模塊化的片上芯片（SOC），配備激光二極管陣列，以提高測(cè)量的可靠性和重復(fù)性。

4. 自動(dòng)化功能：KLA-Tencor AIT XP 配備了自動(dòng)探針加載和高級(jí)算法，以確保精確的質(zhì)量保證評(píng)估和過(guò)程控制。

5. 廣泛的應(yīng)用范圍：該系統(tǒng)不僅適用于掩模車間和晶圓廠，還適用于其他半導(dǎo)體鑄造廠，支持多層能耗層計(jì)量和深度學(xué)習(xí)及人工智能等先進(jìn)技術(shù)。

6. 動(dòng)態(tài)優(yōu)化：通過(guò)使用KLA的NexTek技術(shù)，AIT XP能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)控并優(yōu)化光刻模塊工藝和非光刻模塊工藝，從而提升整體工藝控制水平。

總之，KLA-Tencor AIT XP 是一款功能強(qiáng)大且高效的晶圓測(cè)試和計(jì)量設(shè)備，通過(guò)其先進(jìn)的檢測(cè)技術(shù)、自動(dòng)化功能和模塊化設(shè)計(jì)，能夠顯著提升半導(dǎo)體制造過(guò)程中的缺陷檢測(cè)能力和生產(chǎn)效率。